2026年 1月 6日

Artec Studio 20.3更新：兼容PolyWorks、功能升级与错误修复

卢森堡3D扫描领军企业Artec 3D正式推出Artec Studio 20.3更新版本，所有Artec Studio 20用户皆可使用。

升级至新版Artec Studio，可提升Artec Spider II、Ray II及AI摄影测量功能的多项性能。20.3版本内置AI摄影测量功能，可直接把照片或视频转换成3D模型。此外，操作界面中的工作流程、纹理及用户界面均有升级。

除了提升性能、效率与模型质量，用户还能获得更流畅、更直观的3D数据采集与处理体验。对于有检测需求的用户，20.3版本已兼容PolyWorks Inspector软件。总体而言，此次升级对各领域应用均有显著优化，能为所有Artec用户带来切实的改善体验。

基于与工业计量软件开发商Innovmetric新达成的合作协议，Artec Studio现已集成PolyWorks Inspector软件，用户能够将网格模型、点云及CAD基元直接导出至PolyWorks进行分析。

该软件内置符合ISO与ASME标准的几何尺寸与公差（GD&T）工具，能够快速精准地进行测量、分析和公差检测，从而高效“提炼”出可操作的分析结果。

在Artec Studio 20.3中，Spider II的扫描减面功能进一步升级。这款轻巧便携的手持扫描仪能以超高分辨率捕获数据。为方便后续数据导出，此前已增加降低帧捕获率的选项。用户现在还能降低每帧的点云数量，确保仅采集必要数据，从而加快处理速度。

Ray II现支持全景功能，这意味着用户可以直接导出全景图像与扫描点位绑定的E57格式数据。该功能不仅改善了Ray II与第三方AEC软件的兼容性，也为大规模测量提供了关键的场景信息。

Artec Studio 20.3对AI摄影测量进行了重要升级。现在，用户生成3D模型时无需使用掩膜。此前，使用掩膜处理时，被摄物体需始终完整处于取景框中，但是特写镜头会干扰算法。无掩膜模型捕获则消除了这一限制，让新手也能更轻松地获得高质量成果。

该功能当前配备两种算法：一种适用于近距离捕获中小型物体（无掩膜），另一种则适用于需要翻转的物体（需掩膜）。无掩膜模式适用于特征缺失物体，而有掩膜模式适用于大多数应用场景。

Artec Studio的纹理功能主要在两个方面得到提升：工作流程（Workflow）整合与增强的自定义能力。Artec Studio 20内含优先使用清晰图像的功能，这是一种利用最佳帧创建摄影测量模型的新方法。如今，通过定制的处理工作流程，用户只需一键即可自动启用该设置。

综上，本次更新标志着20.3版本在稳定性与功能完善性上达到了新的高度。Artec 3D将持续优化软件产品，敬请关注后续更新！

请查阅Artec Support上的发布说明，获取Artec Studio 20.3的更多信息。

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